FR-Scanner / 自動膜厚マッピングシステム

FR-Scanner / 自動膜厚マッピングシステム
メーカー
θ Metrisis (ThetaMetrisis) 膜厚計
型番
FR-Scanner
分野・用途
膜厚測定 , 板厚測定 , シリコンウェーハの厚さ測定 , 分光反射率の測定

卓上型自動膜厚マッピングシステムです。製造プロセスにおけるカセットシステムにも応用が可能です。例えばCMP後のポリシリコン膜や酸化膜の厚さムラを無駄のない理にかなったステージモーションで高速に測定します。そのため製造プロセスにおけるタクトタイムの短縮に貢献します。 測定時間目安:625ヶ所/1分(8インチウェーハにて等間隔測定時)

用途・特徴

自動膜厚マッピングシステム
・厚さ数十ナノメートルから数十ミクロンレンジの膜厚測定を得意とする膜厚計です。ボタン1つで瞬時に結果が判ります。
・単層の厚さのみならず最大5層を同時測定できます。(サンプルの構成や各層の光学特性により異なります。)
・膜厚測定のみならず、屈折率や消衰係数の光学定数解析が可能です。
・測定ステージのアームにはハイトアジャスターが標準装備。ウェーハ、フィルムといったシート状の薄い基材のみならず高さのあるガラス基板やブロック形状物にも柔軟に対応します。
・ファイバ先端に焦点距離可変レンズを取り付けることで測定スポットサイズを自由に可変できます。これは粗面サンプルでは難しい膜厚測定が粗面の影響を軽減させることで膜厚測定を行いやすい効果があります。
・光源にはLEDランプを搭載。寿命は約20000hで一般ハロゲンランプの約20倍長寿命でありランニングコストに貢献します。

性能・仕様

測定可能サイズ 2inch3inch 4inch 6 inch 8inch 12inch
分光波長範囲 370nm-1020nm
膜厚測定範囲 12nm-90µm
測定スポットサイズ Φ0.35mm
測定正確さ ±0.2% または 1nm どちらか大きい方
測定安定性* 0.06nm
光学定数解析 可能
サイズ 幅: 485mm 、 奥行き :457 mm 、 高さ : 500mm
重量 約40kg

*測定安定性 ( SiO2 on Si 酸化 膜膜 厚スタンダード 1µm を 15 日間以上測定した 1 日平均の標準 偏差

測定膜種例

・半導体関連膜(ポリシリコン、アモルファスシリコン、フォトレジスト、酸化膜、窒化膜、Low-k材料、など)
・ディスプレイ関連膜(アモルファスシリコン、フォトレジスト、カラーレジスト、透明電極ITO、ポリイミド、反射防止コーティング、ハードコーティング、など)
・機能性フィルム(包装フィルム、離形処理層、易接着層、粘着膜、有機膜、無機膜、フッ素コーティング、PETフィルムなどの原反厚さなど)
・その他(DLC、TiO2光触媒膜、各クリア塗装、など)

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