卓上型非接触式膜厚計です。成膜した直後すぐに測定したい場合に便利です。各生産工程(半導体前工程やフィルムの流延やRoll to Roll)への取付にも柔軟に対応します。
・膜厚測定範囲:12nm-90?m
・測定正確さ(Accuracy)*1:±0.2% または 1nm
・測定安定性(Stability)*2:0.06nm
・分光波長範囲:380nm-1020nm
・サイズ:300mm×110mm×40mm(ステージ部は含まず)
*1 校正された分光エリプソメータおよびXRD法(X線解析)との比較です。 *2 SiO2 on Si酸化膜膜厚スタンダード1?mを15日間以上測定した1日平均の標準偏差です。
半導体関連膜(ポリシリコン、アモルファスシリコン、フォトレジスト、酸化膜、窒化膜、Low-k材料、など)
ディスプレイ関連膜(アモルファスシリコン、フォトレジスト、カラーレジスト、透明電極ITO、ポリイミド、反射防止コーティング、ハードコーティング、など)
機能性フィルム(包装フィルム、離形処理層、易接着層、粘着膜、有機膜、無機膜、フッ素コーティング、PETフィルムなどの原反厚さなど)
その他(DLC、TiO2光触媒膜、各クリア塗装、など)