FR-pOrtable / 光学式非接触膜厚測定器

FR-pOrtable / 光学式非接触膜厚測定器
メーカー
θ Metrisis (ThetaMetrisis) 膜厚計
型番
FR-pOrtable
分野・用途
膜厚測定 , フィルムインライン膜厚モニター , 分光反射率の測定 , 分光透過率の測定

卓上型非接触式膜厚計です。成膜した直後すぐに測定したい場合に便利です。各生産工程(半導体前工程やフィルムの流延やRoll to Roll)への取付にも柔軟に対応します。

用途・特徴

光学式非接触膜厚測定器(ベーシックモデル)
・厚さ数十ナノメートルから数十ミクロンレンジの膜厚測定を得意とする膜厚計です。ボタン1つで瞬時に結果が判ります。
・単層の厚さのみならず最大5層を同時測定できます。(サンプルの構成や各層の光学特性により異なります。)
・膜厚測定のみならず、屈折率や消衰係数の光学定数解析が可能です。
・測定ステージのアームにはハイトアジャスターが標準装備。ウェーハ、フィルムといったシート状の薄い基材のみならず高さのあるガラス基板やブロック形状物にも柔軟に対応します。
・ファイバ先端に焦点距離可変レンズを取り付けることで測定スポットサイズを自由に可変できます。これは粗面サンプルでは難しい膜厚測定が粗面の影響を軽減させることで膜厚測定を行いやすい効果があります。
・USBバスパワーのため別途電源不要。USBケーブル1本で電源供給とPCとの通信が可能です。
・光源にはLEDランプを搭載。寿命は約20,000hで一般ハロゲンランプの約20倍長寿命でありランニングコストに貢献します。

性能・仕様

・膜厚測定範囲:12nm-90?m
・測定正確さ(Accuracy)*1:±0.2% または 1nm
・測定安定性(Stability)*2:0.06nm
・分光波長範囲:380nm-1020nm
・サイズ:300mm×110mm×40mm(ステージ部は含まず)
*1 校正された分光エリプソメータおよびXRD法(X線解析)との比較です。 *2 SiO2 on Si酸化膜膜厚スタンダード1?mを15日間以上測定した1日平均の標準偏差です。

測定膜種例

半導体関連膜(ポリシリコン、アモルファスシリコン、フォトレジスト、酸化膜、窒化膜、Low-k材料、など)
ディスプレイ関連膜(アモルファスシリコン、フォトレジスト、カラーレジスト、透明電極ITO、ポリイミド、反射防止コーティング、ハードコーティング、など)
機能性フィルム(包装フィルム、離形処理層、易接着層、粘着膜、有機膜、無機膜、フッ素コーティング、PETフィルムなどの原反厚さなど)
その他(DLC、TiO2光触媒膜、各クリア塗装、など)

テキスト
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