FR-pRo / 光学式非接触膜厚測定器

FR-pRo / 光学式非接触膜厚測定器
メーカー
θ Metrisis (ThetaMetrisis) 膜厚計
型番
FR-pRo
分野・用途
膜厚測定 , 板厚測定 , シリコンウェーハの厚さ測定 , 分光反射率の測定 , 分光透過率の測定

卓上型非接触式膜厚計です。成膜した直後すぐに測定したい場合に便利です。各生産工程(半導体前工程やフィルムの流延やRoll to Roll)への取付にも柔軟に対応します。

用途・特徴

光学式非接触膜厚測定器
■厚さ数十ナノメートルから数十ミクロンレンジの膜厚測定を得意とする膜厚計です。ボタン1つで瞬時に結果が判ります。
■層の厚さのみならず最大5層を同時測定できます。(サンプルの構成や各層の光学特性により異なります。)
■膜厚測定のみならず、屈折率や消衰係数の光学定数解析が可能です。別売附属品での分光透過率測定も可能です。
■測定ステージのアームにはハイトアジャスターが標準装備。ウェーハ、フィルムといったシート状の薄い基材のみならず高さのあるガラス基板やブロック形状物にも柔軟に対応します。
■ファイバ先端に焦点距離可変レンズを取り付けることで測定スポットサイズを自由に可変できます。これは粗面サンプルでは難しい膜厚測定が粗面の影響を軽減させることで膜厚測定を行いやすい効果があります。
■別売で温度調整ステージを用意しており薄膜に対して温度を変えあげることで膜厚の温度依存をリアルタイムでモニタリングできます。

性能・仕様

タイプ 分光波長範囲 膜厚測定範囲 機種選定のポイント
VIS/NIR 370nm - 1000nm 12nm - 100μm 数十ナノから数十ミクロン程度の透明薄膜
UV/VIS 200nm - 850nm 1nm - 80μm 数ナノレベルの極薄薄膜の厚さ測定
UV/NIR-EXT 200nm - 1000nm 3nm - 80μm 数ナノレベルの極薄薄膜の厚さ測定
UV/NIR-HR 200nm - 1100nm 1nm - 120μm 数ナノレベルの極薄薄膜の厚さと100μm以上の厚い膜厚
NIR-E 950nm - 1650nm   Si厚さやガラス板厚さの測定
NIR-HR 900nm - 1700nm   100μmを超える厚さや着色膜の厚さ測定
D VIS/NIR 370nm - 1700nm   膜厚が数十ナノから数十ミクロン程度の透明薄膜の厚さや 100μmを超える厚さや着色膜の厚さ測定
D UV/NIR 200nm - 1700nm 1nm - 250μm ハイエンドモデル

・測定正確さ(Accuracy)*1:
・測定安定性(Stability)*2:
*1 校正された分光エリプソメータおよびXRD法(X線解析)との比較です。 *2 SiO2 on Si酸化膜膜厚スタンダード1?mを15日間以上測定した1日平均の標準偏差です。

測定膜種例

■半導体関連膜(ポリシリコン、アモルファスシリコン、フォトレジスト、酸化膜、窒化膜、Low-k材料、など)
■ディスプレイ関連膜(アモルファスシリコン、フォトレジスト、カラーレジスト、ITO、ポリイミド、反射防止コーティング、ハードコーティング、など)
■機能性フィルム(包装フィルム、離形処理層、易接着層、粘着膜、有機膜、無機膜、フッ素コーティング、PETフィルムなどの原反厚さなど)
■自動車(外板クリア膜、インテリアパネルクリア膜、潤滑油(バルブリフター、ショックアブソーバ)、ガラス中間膜、撥水・浸水コーティングなど)
■その他(DLC、TiO2光触媒膜、各クリア塗装、など)

FR-pOrtableとの違い

■FR-pRoはファイバーケーブル方式、FR-pOrtableではファイバーケーブルではありません。
 FR-pRoはファイバーケーブルなので量産ラインでの狭いところにおける設置やそのほかの応用が容易です。
 また、豊富な分光器をラインナップしておりUVやNIRの分光測定を必要とする膜厚測定に有用です。
■FR-pRoではラインナップごとに設定された分光波長範囲を選ぶことによって次のような難度の高い膜厚の測定が可能です。
・フィルム上に成膜した数十nmの極薄膜
・吸収特性のない黒い薄膜の厚さ測定
・100?mを超える厚い膜の測定
・Si基板やガラス基板の厚さ測定
・光学定数波長依存性

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