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OPIE 2021

開催概要

会期 2021年6月30日(水)~7月2日(金) 10:00~17:00
会場 パシフィコ横浜(横浜市西区みなとみらい1-1-1)
みなとみらい線みなとみらい駅より徒歩3分 / JR・市営地下鉄 桜木町駅より徒歩12分
ブース ブースNO:O-32
出展内容

● 近赤外光放射パターン強度測定(ビームプロファイラ)
  ✓3Dセンシングに使用される近赤外光の放射特性(配光・広がり具合、放射強度)を
   ゴニオメータ無しでワンショットで測定します。

  ✓測定の高速性から研究開発のみならず、生産ラインでの検査・品質管理にも有効な装置です。
  ✓主な測定対象:ToFセンサ、LiDAR、DOE、Diffuser

● 反射分光膜厚計

  ✓卓上型非接触式膜厚計です。成膜した直後すぐに測定したい場合に便利です。
  ✓非接触のため、サンプルを傷つけず実際に出荷する製品の測定、品質管理が可能です。
  ✓卓上設置のみならず各生産工程(半導体前工程やフィルムのRoll to Roll)への取付にも柔軟に対応します。
  ✓主な測定対象:ハードコート、反射防止膜、アンチグレア、アンチフォグ、フッ素、半導体材料、ITO、DLC、他
  ✓膜厚測定範囲:3nm-250μm(機種により異なる) 

※ 出展内容は変更になることがあります。
 
問い合わせ
公式サイト

 

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